[컨콜]삼성전자 “14나노 D램 수율, 놀라울 정도로 빠른 증가”

삼성전자는 28일 올해 3분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 “D램의 14나노미터(㎚, 10억분의 1m) 공정 수율이 최근 빠르게 증가하고 있다. 기존 15나노미터 공정과 비교해도 매우 빨라서 놀라울 정도”라고 밝혔다.

삼성전자는 “14나노 D램은 극자외선(EUV) 공정 노하우가 적용됐고, EUV 생태계를 바탕으로 원가 경쟁력을 강화하는 제품”이라며 “생산 증가 속도도 제 궤도에 올라 삼성전자의 기술, 가격 리더십을 유지할 수 있다고 본다”고 전했다.